• Archief BDU

Proefinstallatie Chemours om emissie GenX terug te dringen

SLIEDRECHT Het chemiebedrijf Chemours uit Dordrecht gaat in een grootschalige proefinstallatie investeren om de emissie van GenX in afvalwater verder terug te dringen.

Het bedrijf zegt zich ervan bewust te zijn dat er in de directe omgeving van de productielocatie in Dordrecht vragen en zorgen zijn over de polymerisatiehulpstof, ook wel GenX genaamd.

Chemours stelt met alle belanghebbenden, inclusief de lokale autoriteiten, aan deze vragen en zorgen te werken. ,,Wij hebben de afgelopen jaren hard gewerkt aan de invoering van diverse maatregelen om GenX-emissies verder terug te dringen. Dit heeft er toe geleid dat er sinds 2013 enorme stappen zijn gezet in het verder reduceren van de emissie van de polymerisatiehulpstof. Deze is ondertussen met de helft teruggebracht. Dit komt tot uitdrukking in de door Chemours voorgestelde herziening van de lopende vergunning waarover het bedrijf in gesprek is met de betrokken autoriteiten."

Het is volgens Chemours de uitdaging om technisch haalbare oplossingen te vinden om de emissie van de hulpstof GenX efficiënt verder te reduceren. Chemours heeft een mogelijke oplossing geïdentificeerd en wil de haalbaarheid daarvan onderzoeken om een proefinstallatie zo snel mogelijk in bedrijf te kunnen stellen. Met het bouwen van deze grootschalige proefinstallatie - met een koolstof bed-filter - streeft Chemours ernaar de genoemde emissie in afvalwater nog verder terug te brengen.

Het ligt in de bedoeling om deze proefinstallatie komende zomer operationeel te hebben. Resultaten uit het werken met de proefinstallatie zijn dan eind van dit jaar beschikbaar. Deze proefresultaten zal Chemours gebruiken in de aanvraag tot herziening van haar huidige vergunning die gepland staat voor het eerste kwartaal van 2018. Deze herziening van de vergunning is een belangrijk onderdeel in de uitvoering van het Vier Puntenplan dat Chemours in december 2016 is gestart.

Volgens waterbedrijf Oasen is het drinkwater overigens veilig.